華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高的精度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器——高真空退火爐。它能在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱。還能節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度；不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求；安裝簡單，有冷卻系，安全可靠；提高試驗(yàn)人員的工作效率，。

　　設(shè)備優(yōu)勢：

　　高速加熱與冷卻方式

　　高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

　　溫度高的精度控制

　　過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式)此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

　　不同環(huán)境下的加熱與冷卻

　　加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng))，操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

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